Fusion™ 706
Recommended for use in a range of plasma equipment applications, from etch and plasma enhanced CVD to plasma ashing applications, Fusion TM 706 is ideal for sealing devices that must accommodate tolerance stack-up conditions.
Fusion TM 706 offers very low-metallic ion levels and good resistance to today’s advanced process chemistries. Contact Greene Tweed’s Semiconductor engineering and sales experts for specific application recommendations.
Allgemeine Eigenschaften
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Technical Datasheet (English)
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