Perlast® G75H
High temperature perfluoroelastomer for Semiconductor applications
Perlast® G75H incorporates a novel reinforcement system which produces a synthetically clean compound formulated for minimum particle generation combined with excellent resistance to aggressive oxygen and fluorine based plasmas.
Specially developed for Plasma and Gas Deposition applications including ashing, etching, HDPCVD, PECVD, SACVD.
Particularly suited for use in applications which require exposure to temperatures of up to 320°C (608°F) combined with excellent mechanical properties.
Key Attributes
Typical Applications
Perlast® G75H incorporates a novel reinforcement system which produces a synthetically clean compound formulated for minimum particle generation combined with excellent resistance to aggressive oxygen and fluorine based plasmas.
Specially developed for Plasma and Gas Deposition applications including ashing, etching, HDPCVD, PECVD, SACVD.
Particularly suited for use in applications which require exposure to temperatures of up to 320°C (608°F) combined with excellent mechanical properties.
Key Attributes
- Excellent plasma resistance
- High temperature stability
- Wide chemical resistance
- Low out-gassing properties making it ideal for vacuum applications
- Ultra low metal ion content
- Low coefficient of thermal expansion
- Outstanding physical properties make G75H ideal for dynamic applications.
Typical Applications
- Dynamic seals
- Static seals
- Other components
一般的な属性
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材料ステータス
供給可能
ドキュメント
description
Technical Datasheet (English)
ドキュメントのダウンロード可用性
アジア太平洋地域, 欧州, 北アメリカ
用途
シール
その他の属性
特徴, 外観, 引張り応力100%, 引張応力100%, 降伏点での引張り強度, 引張降伏応力, 破断伸び, 引張破壊歪み, 圧縮セット, 圧縮セット, デュロメーター硬度, IRHD硬度, IRHD硬度, その他の特性, 追加情報
加工
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ご購入方法
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